讲解碳化硅微粉的除碳工艺

时间：2019/4/30 3:00:00 来源：http://www.ayzxnc.com/news72779.html

虽然，经过近年来的发展，认识及了解碳化硅的人在不断增多，碳化硅也凭借着多样化的种类，多种功能及用途，被广泛的应用于不同的领域。碳化硅微粉是众多碳化硅中的一员，也有着一定的应用范围。但是为了确保及提升碳化硅微粉的品质，在生产时需要进行除碳，而现在碳化硅微粉常用的除碳工艺有加热氧化法，化学氧化法两种，下面将针对这两种除碳工艺进行讲解。

1、加热氧化法，通过对碳化硅微粉进行高温煅烧，使碳化硅微粉中的游离碳及石墨与空气中的氧气反应，以二氧化碳或者一氧化碳的形式脱离碳化硅，从而实现了除碳的目的。工艺条件为煅烧温度为900℃，煅烧时间为3h，碳化硅内部的碳杂质得到了完全去除。

2、化学氧化法，用硝酸、硫酸和高氯酸中的一种或组成混合酸使用，或者在酸中添加作无机氧化剂的高锰酸钾和重铬酸钾，使碳化硅微粉中的碳杂质以气体的形式挥发出去，从而实现了对石墨和游离碳的去除。利用化学氧化法虽然也能使碳化硅微粉中的游离碳氧化成气体挥发掉，但氧化工艺所添加的强氧化性酸对人体及机器都会有强烈的腐蚀性，所以不利于大规模的工业化生产。